集微網消息，據日媒報道，全球最大的半導體濺射靶材廠商—JX日礦于3月16日宣布，繼在美國亞利桑那州建廠后，將在茨城縣常陸那珂市征地建設另一家半導體濺射靶材工廠。
擬征地用地面積為240000平米，日媒稱預計投資額約為2000億日元，新工廠將從 2025 年初陸續投產。
據介紹，該公司基于對半導體濺射靶材和壓延銅箔/高性能銅合金帶材等先進材料供求狀況的評估，為滿足緊迫的下游需求，做出了這一投資決定。
此外，除現有的半導體濺射靶材、壓延銅箔、高性能銅合金帶材等業務外，JX日礦還表示將大力發展面向6G時代的晶體材料技術，此前其已投資了新一代高頻無線通信氧化鎵晶體研發企業Novell Crystal。（校對/樂川）